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时间:2026-07-11 02:28:06 来源:网络整理 编辑:休闲
近日,第三届九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会以下简称“九峰山论坛”)正式开幕。华工科技核心子公司华工激光携全新升级的化合物半导体“激光+量测”先进装备整体解决方案亮相展会,子公司华工正源总经理胡长飞
近日,华工和华化合第三届九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会(以下简称“九峰山论坛”)正式开幕。激光华工科技核心子公司华工激光携全新升级的工正化合物半导体“激光+量测”先进装备整体解决方案亮相展会,子公司华工正源总经理胡长飞受邀出席主论坛并作主题为《光速智变:解码DSPBaSe、源亮LPO/LRO、相峰NPO/CPO,山论迈向3.2T的坛暨光传输技术驱动AI算力跃迁》报告。
01“激光+量测”半导体行业应用全覆盖
四大材料 |两个系列 |六类装备
面向第三代化合物半导体领域,物半华工科技通过自主研发+产业链合作的导体形式,开发了覆盖前、产业后道制程的博览10余套装备,并在多家半导体厂商实现批量应用。华工和华化合
量测系列
更大尺寸、激光更强能力
第二代碳化硅衬底外观缺陷检测智能装备
在半导体衬底阶段,工正华工激光依托深厚的源亮光学系统设计、大数据算法处理、自动化控制软件等技术沉淀,重磅推出专为大尺寸(8寸)碳化硅衬底外延片检测打造的第二代缺陷检测智能装备。
4合1
明场、暗场、相位、光致发光四通道光学采图系统
25%
缺陷成像清晰度较传统方式提升25%,缺陷更易识别
12min
高速成像技术,在提升成像质量的同时保证检测速度不降速
45%
传统算法+AI算法,提升45%的运算能力
封测系列
稳定高产、行业领先
全自动晶圆激光退火智能装备
该智能装备目前已升级至可加工8英寸晶圆激光退火。通过机台前置EFEM系统预定位,结合定制激光退火头和精密运动平台相对运动,实现对整片SiC晶圆背金(Ni或Ti层)退火,形成良好欧姆接触,降低接触电阻,提高器件电学性能。
15 pcs/h
wph≥15pcs/h
加工速度行业领先
95%
工艺均匀性≥95%
技术水平行业领先
封测系列
无损基材,刀法精湛
全自动晶圆激光改质切割智能装备
通过多组高精度CCD视觉相机定位整片晶圆,实现对6~8英寸不同晶粒规格晶圆自动识别和定位,结合定制超快激光和精密运动平台相对运动,实现对整片晶圆的内部改质(隐切),再通过晶圆专用裂片机,实现对晶圆的全切和晶片的分离。
100%
核心零部件 100%国产化
5pcs/h
wph≥5pcs/h
*针对6英寸晶圆
3mm*3mm,200µm
超高速
超高速、高响应率
配有DFT系统
封测系列
激光开槽、精准高效
全自动晶圆激光开槽智能装备
通过多组高精度CCD视觉相机定位整片晶圆,实现对6~12英寸不同晶粒规格晶圆的自动识别和定位,结合紫外/绿光脉冲激光和精密运动平台相对运动,及保护液涂敷/纯水清洗/吹气干燥工艺流程,实现对整片/残片半导体晶圆正面/背面开槽。
15 pcs/h
wph≥15pcs/h
加工速度行业领先
0.5µm
开槽底部均匀性 ≤ ±0.5µm
展会同期,华工激光精密事业群半导体面板事业部总监黄伟参加平行论坛,并作《激光技术重塑化合物半导体制造工艺》主题报告。
02AI驱动光通信技术演进
AI热点应用全景洞察 | AI光模块需求及变化
解码技术路线DPO/LPO/CPO | 趋势与展望
论坛报告
光速智变,算力跃迁
作为主论坛受邀演讲嘉宾,华工正源总经理胡长飞以AI为主题,从AI应用全景洞察、AI光模块需求变化、DPO/LPO/LRO/CPO技术路线、未来发展趋势等多维度,深度解读在AI驱动下,光通信技术发展演进变化。
在AI产业迅猛发展的当下,算力需求指数级增长,光传输技术成为关键支撑。报告中,胡长飞重点解读了DSP Base、LPO/LRO、NPO/CPO方案与路径。他通过对比这些技术路径在传输效率、功耗等方面的表现,阐述了迈向3.2T的光模块如何借此实现高速、大容量数据传输,为AI算力跃迁赋能。
作为行业创新标杆,华工科技围绕化合物半导体产业链积极布局,现已推出十余款“激光+量测”先进智能装备,及高速率光模块产品,用硬核智造,持续赋能产业升级。
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